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半導體生產中應用的超純水設備都由哪些工藝組成?

時間:2023-09-19

  半導體是作為一種電子性質介于導體和絕緣體之間的材料,具有重要的電子學和光電學性質,廣泛用于電子、光電和信息技術領域。其在制造過程中需要清洗的超純水,幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水,為了更好地為半導體生產清洗用水供給,超純水設備也在增加生產力度。

  目前,半導體生產中應用的超純水設備摒棄了傳統工藝,核心是采用的膜法技術,應用反滲透工藝與EDI和混床工藝來生產超純水,不僅產水量增加,出水電導率可達18.2mΩ, 滿足了芯片行業用水需求。

超純水設備

  該超純水設備采用的核心工藝組成介紹如下:

  1、反滲透工藝:利用反向滲透原理,有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等,降低水質的離子含量。

  2、EDI模塊:無需酸堿再生,運行成本低,EDI系統的自動化程度很高,可以連續工作,出水水質好且穩定,出水電阻率≥15MΩ·CM。

  3、拋光混床工藝:專門用于高純度的水處理系統中的終端精制器,能夠將水中的離子含量降到PPB級別,出水電阻率可達18.2MΩ·CM。

  以上,介紹的工藝就是目前半導體生產應用的超純水設備核心工藝組成。萊特萊德水處理設備公司超純水設備在保證出水達標的同時,還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節,為半導體生產提供了高品質的超純水。

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  編輯:柒柒   技術:米

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